申請?zhí)? 201720970674.3

申請日: 2017.08.04

國家/省市:中國北京(11)

主分類號:B24B 1/00(2006.01)

授權(quán)公告號:207043868U

授權(quán)公告日:2018.02.27

分類號: B24B 1/00(2006.01)

申請人: 北京交通大學(xué); 江西德義半導(dǎo)體科技有限公司

發(fā)明人: 李建勇; 樊文剛; 曹建國; 劉月明; 聶蒙; 朱朋哲; 易德福

代理人: 黃曉軍

代理機(jī)構(gòu):北京市商泰律師事務(wù)所(11255)

申請人地址:北京市海淀區(qū)西直門外上園村3號

摘要： 本實用新型提供了一種磁流變平面拋光裝置，涉及超精密加工技術(shù)領(lǐng)域，包括支架，支架頂端設(shè)有平臺，平臺上固定有旋轉(zhuǎn)座，旋轉(zhuǎn)座上設(shè)有拋光盤，旋轉(zhuǎn)座連接有拋光盤驅(qū)動機(jī)構(gòu)；拋光盤的上方設(shè)有工件夾持機(jī)構(gòu)，工件夾持機(jī)構(gòu)設(shè)有夾盤；平臺下方設(shè)有磁場發(fā)生機(jī)構(gòu)的轉(zhuǎn)盤上以所述轉(zhuǎn)盤的中心為起點，沿等速螺線均勻設(shè)置有若干永磁鐵。本實用新型將永磁鐵沿等速螺線以磁極方向相反的方式相間排布在轉(zhuǎn)盤上，在拋光盤、待加工工件和永磁鐵的旋轉(zhuǎn)復(fù)合作用下，使磁流變拋光液形成柔性拋光面，磁流變拋光液中的磨料在脈沖磁場的作用下實時快速更新自銳，提高了磁流變拋光效率，降低了拋光液中磨粒的磨損率，延長了磁流變拋光液的使用壽命，提高了拋光效率和質(zhì)量。

主權(quán)利要求

一種磁流變平面拋光裝置，其特征在于：包括支架(1)，所述支架(1)的頂端設(shè)有平臺(9)，所述平臺(9)上固定有旋轉(zhuǎn)座(10)，所述旋轉(zhuǎn)座(10)上設(shè)有拋光盤(3)，所述旋轉(zhuǎn)座(10)連接有拋光盤驅(qū)動機(jī)構(gòu)(4)；所述拋光盤(3)的上方設(shè)有工件夾持機(jī)構(gòu)(5)，所述工件夾持機(jī)構(gòu)(5)包括有夾盤(507)，所述夾盤(507)位于所述拋光盤(3)上方；所述平臺(9)的下方設(shè)有磁場發(fā)生機(jī)構(gòu)(6)，所述磁場發(fā)生機(jī)構(gòu)(6)包括有轉(zhuǎn)盤(7)，所述轉(zhuǎn)盤(7)位于所述拋光盤(3)的下方，所述轉(zhuǎn)盤(7)上以所述轉(zhuǎn)盤(7)的中心為起點，沿等速螺線均勻設(shè)置有若干永磁鐵(8)。