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CMP拋光材料及顯示材料持續(xù)放量 鼎龍股份一季度扣非凈利潤(rùn)翻倍增長(zhǎng)

4月28日晚間,鼎龍股份披露一季報(bào)。2025年第一季度,公司實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入8.24億元,同比上升16.37%;實(shí)現(xiàn)歸屬于上市公司股東的凈利潤(rùn)1.41億元,同比上升72.8...

日期 2025-04-29   

鼎龍股份:CMP拋光墊產(chǎn)品已在某主流外資邏輯廠商實(shí)現(xiàn)小批量供貨

每經(jīng)AI快訊,4月9日,鼎龍股份在互動(dòng)平臺(tái)表示,海外市場(chǎng)拓展是公司半導(dǎo)體材料未來業(yè)務(wù)發(fā)展的重要組成部分,相關(guān)工作目前正在按計(jì)劃推進(jìn)中:如CMP拋光墊產(chǎn)品已在某主流外資邏...

日期 2025-04-11   

鼎龍股份:2024年CMP拋光墊銷售收入約7.31億元,同比增長(zhǎng)約75%

金融界3月20日消息,鼎龍股份(300054)披露投資者關(guān)系活動(dòng)記錄表顯示,公司在半導(dǎo)體材料業(yè)務(wù)方面持續(xù)擴(kuò)展,2024年公司CMP拋光墊銷售收入約7.31億元,同比增長(zhǎng)...

日期 2025-03-21   

CMP拋光液中常見的磨料材料有哪些?

CMP拋光液中常見的磨料材料有哪些?
CMP拋光液中常見的磨料材料有哪些?
CMP拋光液中常見的磨料材料有哪些?

1965年沃爾什和赫爾佐格提出二氧化硅溶膠和凝膠拋光的方法,自此,以二氧化硅漿料為代表的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝就逐漸取代了機(jī)械拋光的主導(dǎo)地位;20世紀(jì)80年代中期,...

日期 2025-01-15   
全面剖析:化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)(CMP)的深度探索

全面剖析:化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)(CMP)的深度探索

在半導(dǎo)體制造這一高度精細(xì)且復(fù)雜的領(lǐng)域里,CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)技術(shù)就像是一顆默默閃耀在后臺(tái)的璀璨寶石,盡管不為普...

日期 2024-12-31   
浙企攻破“卡脖子”技術(shù)斬獲首張CMP拋光液訂單

浙企攻破“卡脖子”技術(shù)斬獲首張CMP拋光液訂單

早上9時(shí)左右,敲開寧波潤(rùn)平電子材料有限公司董事長(zhǎng)惠宏業(yè)的辦公室時(shí),他正接起當(dāng)天的第5個(gè)電話。電話接二連三,有催訂...

日期 2024-12-03   

鼎龍股份:子公司CMP拋光墊產(chǎn)品單月銷量首次突破3萬片

鼎龍股份(300054)10月9日晚間公告,公司控股子公司湖北鼎匯微電子材料有限公司CMP拋光墊產(chǎn)品銷售持續(xù)保持快速增長(zhǎng)態(tài)勢(shì),并于2024年9月首次實(shí)現(xiàn)拋光墊單月銷量破...

我國(guó)CMP拋光墊行業(yè)分析:市場(chǎng)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大 國(guó)產(chǎn)企業(yè)破繭而出

我國(guó)CMP拋光墊行業(yè)分析:市場(chǎng)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大 國(guó)產(chǎn)企業(yè)破繭而出
我國(guó)CMP拋光墊行業(yè)分析:市場(chǎng)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大 國(guó)產(chǎn)企業(yè)破繭而出
我國(guó)CMP拋光墊行業(yè)分析:市場(chǎng)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)大 國(guó)產(chǎn)企業(yè)破繭而出

1、CMP拋光墊是實(shí)現(xiàn)平坦化拋光的核心要件之一根據(jù)觀研報(bào)告網(wǎng)發(fā)布的《中國(guó)CMP拋光墊行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)分析與未來投資預(yù)測(cè)報(bào)告(2024-2031年)》顯示,在晶圓進(jìn)行化學(xué)機(jī)械...

日期 2024-09-18   

深入探索 CMP:化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)的全方位解讀

深入探索 CMP:化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)的全方位解讀
深入探索 CMP:化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)的全方位解讀
深入探索 CMP:化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)的全方位解讀

在半導(dǎo)體制造這個(gè)高度精密且復(fù)雜的領(lǐng)域中,CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)技術(shù)宛如一顆隱匿于幕后的璀璨明珠,雖不被大眾所熟知,卻在芯片制造的進(jìn)程中扮演著不可或缺的關(guān)鍵角色。今天,就...

日期 2024-09-14   

博來納潤(rùn)占地107畝的半導(dǎo)體CMP材料生產(chǎn)基地破土開工

2024年8月3日早上8點(diǎn)18分,浙江博來納潤(rùn)電子材料有限公司位于衢州智造新城高新片區(qū)的107畝二期項(xiàng)目生產(chǎn)基地正式破土開工建設(shè)。項(xiàng)目建成后,再加上已經(jīng)運(yùn)營(yíng)的一期項(xiàng)目產(chǎn)...

日期 2024-08-13   
CMP拋光液和拋光墊市場(chǎng)報(bào)告:2023年,全球市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到了29.52億美元

CMP拋光液和拋光墊市場(chǎng)報(bào)告:2023年,全球市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到了29.52億美元

集成電路是現(xiàn)代化產(chǎn)業(yè)體系的核心樞紐,半導(dǎo)體材料作為集成電路產(chǎn)業(yè)的基石,在集成電路制造技術(shù)不斷升級(jí)和產(chǎn)業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新...

日期 2024-08-08   

化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)中常用的磨料

化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)中常用的磨料
化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)中常用的磨料
化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)中常用的磨料

化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是一種超精密的表面加工技術(shù),其通過化學(xué)腐蝕和機(jī)械磨削的雙重耦合作用,來實(shí)現(xiàn)工件表面納米級(jí)的局部或全局平坦化。在CMP過程中,磨料作為機(jī)械作用和化學(xué)...

日期 2024-08-06   

CMP工藝中的拋光液

CMP工藝中的拋光液
CMP工藝中的拋光液
CMP工藝中的拋光液

根據(jù)SEMI數(shù)據(jù),全球CMP材料成本占比中,拋光液用量最大,其中拋光液占比49%,拋光墊占比33%,合計(jì)占比82%,鉆石碟占比9%,清洗液占比5%。拋光液是影響化學(xué)機(jī)械...

日期 2024-07-19   

鼎龍股份:已建成與CMP拋光液產(chǎn)線配套的萬噸級(jí)研磨粒子擴(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目

鼎龍股份披露投資者關(guān)系活動(dòng)記錄表顯示,研磨粒子是CMP拋光液的核心原材料,對(duì)拋光液產(chǎn)品品質(zhì)有較大影響,同時(shí)在拋光液的材料成本中占比較高。公司實(shí)現(xiàn)了研磨粒子的自主制備,有...

日期 2024-07-18   

CMP拋光墊熱銷揭秘:不是所有墊子都“爆賣”!

CMP拋光墊熱銷揭秘:不是所有墊子都“爆賣”!
CMP拋光墊熱銷揭秘:不是所有墊子都“爆賣”!
CMP拋光墊熱銷揭秘:不是所有墊子都“爆賣”!

近日,多家企業(yè)已披露2024年半年度業(yè)績(jī)預(yù)告,其中鼎龍股份業(yè)績(jī)亮眼。公司預(yù)計(jì)2024年半年度凈利潤(rùn)為2.01億元—2.21億元,同比增長(zhǎng)110%—130%。公告稱,受國(guó)...

日期 2024-07-08   
CMP拋光墊特性檢測(cè)方法

CMP拋光墊特性檢測(cè)方法

拋光墊在化學(xué)機(jī)械拋光過程中具有儲(chǔ)存和運(yùn)輸拋光液、排除拋光過程產(chǎn)物、維持拋光所需的機(jī)械和化學(xué)環(huán)境等功能,拋光墊的性...

日期 2024-06-13   

一文看懂集成電路材料——CMP拋光材料

一文看懂集成電路材料——CMP拋光材料
一文看懂集成電路材料——CMP拋光材料
一文看懂集成電路材料——CMP拋光材料

1988年,美國(guó)商用機(jī)器公司(IBM)最先將CMP工藝應(yīng)用于4MDRAM器件的制造。由于介電質(zhì)、金屬材料等通過化學(xué)氣相沉積(CVD)或物理氣相沉積(PVD)工藝沉積在硅...

日期 2024-06-12   

CMP拋光液中,SiO2磨料的分散穩(wěn)定性很重要!

CMP拋光液中,SiO2磨料的分散穩(wěn)定性很重要!
CMP拋光液中,SiO2磨料的分散穩(wěn)定性很重要!
CMP拋光液中,SiO2磨料的分散穩(wěn)定性很重要!

拋光液中磨料的作用主要是在晶圓和拋光墊的界面之間進(jìn)行機(jī)械研磨,以確保CMP過程中的高材料去除率。同時(shí),磨料也是影響拋光液穩(wěn)定性的重要因素之一。眾多磨料中,SiO2磨料因...

日期 2024-06-03   

機(jī)構(gòu):預(yù)計(jì)2024年半導(dǎo)體CMP耗材將增長(zhǎng)6%

半導(dǎo)體材料市場(chǎng)信息的咨詢公司TECHCET預(yù)計(jì)2024年半導(dǎo)體CMP耗材將增長(zhǎng)6%。金屬(Co、Mo、Ru)的CMP耗材呈現(xiàn)出迄今為止最大的增長(zhǎng)率,在未來5年內(nèi)增長(zhǎng)94...

日期 2024-05-22   
CMP制程中的拋光墊

CMP制程中的拋光墊

本文介紹了CMP制程中的拋光墊的成分和作用。

日期 2024-05-10   
12   共 34 條記錄

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第六屆磨料磨具磨削展覽會(huì)暨2023金剛石產(chǎn)業(yè)大會(huì)

第六屆磨料磨具磨削展覽會(huì)暨2023金剛石...

2023年9月20日,時(shí)隔四年,期待已久的第六屆磨料磨具磨削展覽會(huì)在鄭州國(guó)際會(huì)展中心隆重開幕。本次展覽會(huì)由中國(guó)機(jī)械工業(yè)集團(tuán)有限公司、國(guó)機(jī)精工股份有限公司、中國(guó)機(jī)械國(guó)際合作股份有限公司聯(lián)合主辦。旨在推動(dòng)中國(guó)磨料磨具行業(yè)的快速發(fā)展,加強(qiáng)國(guó)內(nèi)外企業(yè)的交流與合作。

中國(guó)人造金剛石誕生60周年

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1963年,我國(guó)成功研制出第一顆人造金剛石,經(jīng)過幾代人的拼搏奮斗,實(shí)現(xiàn)了從無到有、從小到大、從弱到強(qiáng)的華麗蝶變。人造金剛石及其制品在我國(guó)航空航天、國(guó)防軍工、機(jī)床機(jī)械等領(lǐng)域發(fā)揮著愈發(fā)重要的作用。不僅如此,隨著金剛石技術(shù)的選代,金剛石民用領(lǐng)域—培育鉆石迎來了自己的大爆發(fā),中國(guó)占據(jù)了世界培育鉆石產(chǎn)量的80%以上,近幾年在國(guó)際上產(chǎn)生了巨大影響力。

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